미국 특허법: 판례로 읽는 핵심 쟁점 (Practical Insights in Case Law)
미국은 특허 소송이 빈번한 분쟁 중심의 제도적 구조를 가지고 있다. 따라서, 기업의 특허 담당자는 분쟁에 대한 이해를 바탕으로 명세서를 작성하고, 특허 분석을 수행할 수 있어야 한다. 이를 통해 기업은 경쟁력 있는 특허를 확보하고, 효율적인 라이선스 협상을 추진하며, 특허분쟁이 발생하더라도 효과적으로 대응할 수 있다. 최신 특허 판례는 이러한 실무적 요구에 부응하는 실질적인 통찰을 제공한다. 이 책은 연방법원 판결을 통해 미국 특허법의 주요 개념과 해석을 설명하고자 한다. 특허법 중요 조항에 대해, 각 조항별로 주요한 특허 요건과 관련된 대표적 판례 (landmark case) 를 최근 사건을 중심으로 설명하였다. 아울러, 각 요건을 정의하는데 중요한 판례 중 일부는 최신 사건이 아니더라도 포함하였으며, 해당 사건의 핵심 쟁점을 중심으로 정리하였다. 또한, 특허 청구항 해석 (claim construction), 균등침해 이론 (Doctrine of Equivalents), 디자인 특허 (design patent), 특허 출원인의 정직 의무 (duty of candor), 국외 판매 (foreign sales) 에 따른 손해배상 청구, 인공지능 (AI) 관련 특허법적 쟁점 등 주요 주제를 선정하고, 각 주제별로 대표 판례를 바탕으로 핵심 쟁점을 설명했다. 특허 사건의 판결문에는 다양한 과학 및 공학 분야의 발명이 등장할 뿐만 아니라, 특허법 외에도 헌법 (Constitution), 계약법 (contract law), 민사소송규칙 (FRCP) 등 다양한 법률적 쟁점이 함께 논의되기 때문에 그 내용을 파악하고 이해하는 것이 쉽지 않다. 그럼에도 불구하고, 판사는 사건의 사실관계를 바탕으로 특허법의 핵심 개념을 논리적으로 서술하고 있기 때문에, 판결문은 특허법을 이해하는데 그 어떤 자료보다도 유익한 학습 도구가 될 수 있다.
목차는 다음과 같다:
(1부) 특허요건 (Patentability Requirements)
미국 특허침해 소송의 관할권 (Jurisdiction)
항소심 재판부의 심리기준 (Standard of Review)
35 U.S.C. §101 Inventions Patentable: 특허대상 발명 (Patentable Subject Matter); 추상적 개념 (Abstract Idea); 발명자 적격 (Inventorship); 자명성 유형 이중특허 (Obviousness-type Double Patenting)
35 U.S.C. §102 Novelty: 신규성 (Novelty); 선행기술 (Prior Art); 제3자 선출원 (Intervening Disclosure) 의 선행기술 제외; 내재성 (Inherency); 판매된 발명 (On-sale Bar)
35 U.S.C. §103 Non-obvious Subject Matter: 비자명성 판단기준 (Graham Framework); 확장적이고 유연 (Expansive and Flexible) 한 접근방식; 일응의 자명성 (Prima Facie Case of Obviousness); 유사기술분야 (Analogous Art); 통상의 기술 수준 (Level of Ordinary Skill); 결합의 동기 (Motivation to Combine); 시도의 자명성 (Obvious to Try); 회피 교시 (Teach Away); 2차적 고려사항 (Secondary Considerations)
35 U.S.C. §112 Specification (a): 발명기재 요건 (Written Description); 실시가능 기재요건 (Enablement)
35 U.S.C. §112 Specification (b): 특허청구항 명확성 (Claim Definiteness) 요건
(2부) 심층 논의 (Selected Topics)
특허청구항 해석 (Claim Construction): 통상적이고 관습적인 의미 (Ordinary and Customary Meaning); 출원 심사 중 포기 (Prosecution Disclaimer); 용어 정의자 원칙 (Own Lexicographer Rule); 명세서 기재에 의한 포기 (Disavowal); 기능식 청구항 (Means-plus-Function Claim); 전제부 (Preamble)
균등침해 이론 (Doctrine of Equivalents): 출원경과 금반언 원칙 (Prosecution History Estoppel); 출원경과 금반언 추정 (Festo Presumption) 의 번복; 공중에의 개시-헌납 원칙 (Disclosure-Dedication Rule); 청구항 한정사항 무력화 (Claim Vitiation); 선행기술 포섭 (Ensnarement); 특허침해의 제한적 예외 (Limited Exception) 로 명시한 판결; 한정요구 대응에 의한 균등침해 주장 제한 여부
디자인 특허 (Design Patent): 물품성 (Article of Manufacture); 장식성 (Ornamental Feature); 비자명성 판단기준; 통상의 관찰자 판단기준 (Ordinary Observer Test); 디자인 특허관점 출원경과 금반언
특허 출원인의 정직 의무 (Duty of Candor): 35 U.S.C. §115 Inventor’s Oath; 불공정 행위 (Inequitable Conduct) 판단기준; IDS 제출 선행기술에 의한 특허무효 주장
국외 판매 (Foreign Sales) 의 손해배상 청구: 35 U.S.C. §271 Infringement of Patent (f)(2); 국외 일실이익 (Foreign Lost Profits) 의 손해배상 청구
인공지능 (Artificial Intelligence): AI 소프트웨어의 발명자 적격 (Inventorship), AI 발명의 특허 대상 적격 (Patent Eligibility), AI 발명의 실시가능 기재요건 (Enablement)
댓글 없음:
댓글 쓰기